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第121章 三大件的解决方案(第2页)

下一步就是把光,通过一个光学系统,收集并投影到涂上了光刻胶的硅片上面。

这个光学系统,也是整台光刻机中,造价成本占比最大的。

这部分康驰准备对大秦光学的镜头生产线,进行升级,然后把它给拆了,直接获得光刻机镜片和反射镜制造,所需要的大部分设备零件。

这么做的效率无疑会高很多,

而且升级后的生产线,估计连解析项目都没有,

因为里面的大部分技术,康驰在解析光刻机的时候,就已经得到了,他本人拥有非常大的解释空间。

唯一的缺点就是,需要他在接下的项目中,进行一定的混淆视听,把这些拆分开的组件,神不知鬼不觉地掺到整个项目里去。

嗯,

就是欺负严辉他们对光刻机没啥研究,

到时候估计也是康驰让他们干什么,他们就干什么,思考空间并不多。

至于光刻机最后的一个关键系统,则是承载硅片的双工件台系统。

它的工作原理很简单,就是在光刻中不断的挪动硅片的曝光部位,但其中的技术含量其实非常大。

因为这个工作平台必须快、准、狠。

速度,决定了光刻机的效率,

移动太慢了,光刻机的产量就不行,

这就要求它,在高速移动后,还得迅速且精准地停下,

停留的位置误差,还得在1n以内,

但凡偏差大一点,整个晶圆就直接报废了!

这啥概念?

大概就是一辆高速行驶的汽车,突然紧急刹停,然后停下位置误差还不能超过1毫米。

不过这个难点,在今年5月份的时候,刚好被铪工大给搞定了,

他们研发出来的真空高速超精激光干涉仪,位移的分辨率达到了惊人的5p,位移误差控制在了30p!

要知道,1000p才等于1n!

003n的位移误差,简直牛逼到不行!

康驰简直怀疑,他们是不是和自己一样开了挂……

讲真,华国能人还是挺多的,

如果不靠系统,康驰自己虽然也有一定的把握可以攻克这种技术,但时间就不知道要多久了……

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